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鍍層厚度標(biāo)準(zhǔn)一般是多少?為什么?

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是SOP,QFP,QFN上LEAD腳鍍層厚度啊 不同的鍍層厚度要求也不一樣 問題問得太籠統(tǒng),常規(guī)鍍層是幾個(gè)微米,封裝上的凸點(diǎn)也有上百微米的 老大,是LF的鍍銀層,還是電流的鍍銀層。電鍍。上面寫錯(cuò)了。QFN 上PPF鍍層較多吧, 具體金層5奈米左右, 鈀幾十奈米,鎳1微米左右。常用的鎳銀或鎳金層一般1~3微米吧。鎳層較厚, 要起阻擋層作用嘛。另外鍍的方法上有電鍍和EN鍍,鍍層表面質(zhì)量不一樣。分立半導(dǎo)體器件的電鍍一般采用純錫或錫基和金電鍍,這幾年由于歐洲RoHS指令生效,純錫電鍍較為流行。純錫電鍍有Wisker的問題,所以鍍層厚度的最小值一般要求超過8微米,并配合150C回火。不同的封裝工藝,對(duì)鍍層的要求不盡一樣,所以我認(rèn)為業(yè)界沒有固定的標(biāo)準(zhǔn)。只要能做到滿足可靠性就可以了. 200-600微英寸

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