磁控濺射陶瓷膜是一種通過物理氣相沉積技術(shù)制備的薄膜。該技術(shù)是利用高能離子轟擊靶材表面，使得靶材原子或分子從靶材表面剝離并沉積在基底上的一種方法。其中的"磁控"指的是在制備過程中，使用了外加磁場來調(diào)節(jié)離子轟擊靶材表面的角度和方向；"濺射"指的是由于離子轟擊而產(chǎn)生的原子或分子從靶材表面剝離并沉積在基底上。

該技術(shù)可以制備出具有高硬度、高耐磨性、高化學(xué)穩(wěn)定性等特點的陶瓷薄膜。這些特點使得該膜廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、機(jī)械等領(lǐng)域，如半導(dǎo)體器件、涂層保護(hù)、摩擦削減等方面。

采用了多層聚酯膜技術(shù)。將240層的聚酯膜疊加在一起，制成僅有0.05mm厚的隔熱膜，它不僅透光性好，同時隔熱性和使用壽命也都很好，并且還沒有電磁信號干擾等特點。

氮化鈦納米陶瓷材質(zhì)不阻隔信號，確保信號穩(wěn)定無憂，側(cè)后擋使用高性能快干粘合劑，3小時快速干燥。